Más de 100 propuestas componen la 9º Muestra de la carrera de Diseño de Vestuario DuocUC. Se presentarán las colecciones "Hombre, Mujer y Ciudad", "Sustentable", "Desde la Experimentación al Textil" y "La Literatura en Alta Costura".

Reconocidas modelos de nuestro país -entre ellas Renata Ruiz, María José Arévalo - desfilarán los novedosos diseños por la pasarela instalada en la sede San Carlos de Apoquindo de DuocUC.

La evolución y resultados de los 21 años de esta carrera que se desarrollan desde la mirada de lo abstracto en la moda hasta la industria del vestuario actual, es el concepto que enmarca la Muestra Anual de la carrera de Diseño de Vestuario de DuocUC que este año se presenta con el título "Pasarela Dossier 100% Diseño de Vestuario".

Al respecto, Mary Ann Lama, directora de la carrera, señala que este es un trabajo integrado que se desarrolla desde la producción de Modas con alumnos de nuestra casa de estudio, estilista como RC studio y maquilladores de la marca Esika para contextualizar los diseños desarrollados  para este año 2009  bajo conceptos contingentes al desarrollo de la industria de Indumentaria de nuestro país. Nuestro principal objetivo es que nuestros alumnos conozcan las diversas experiencias del rubro del vestuario y es por esto que hemos titulado esta muestra como 100%.

El tradicional desfile se realizará el Jueves 3 de diciembre, a las 20:30 horas y será un gran despliegue de innovación, color y creatividad sobre la pasarela al aire libre instalada en el patio central de la sede San Carlos de Apoquindo de DuocUC (Camino el Alba 12.881, Las Condes).

"A partir de la primera colección exhibida como hito el año 2001, la carrera de Diseño de Vestuario de DuocUC ha impulsado un trabajo de investigación, experimentación y análisis, con la finalidad de interpretar y sintetizar las temáticas actuales de nuestro entorno. El trabajo conjunto se transforma así en un reflejo de las necesidades de la sociedad actual", afirma Mary Ann Lama.