Runway, empresa con tres fundadores chilenos que desarrolla herramientas digitales para la industria creativa (cine, música, gráfica, etc.), acaba de cerrar una ronda de inversión “Serie A” por US$8,5 millones en Estados Unidos, levantamiento de capital que es liderado por Amplify Partners con la participación de Lux Capital y Compound, todos fondos de venture capital de NY y San Francisco. .

La startup nacida en 2018, luego que sus fundadores, Cristóbal Valenzuela, Alejandro Matamala y Anastasis Germanidis se conocieran mientras asistían a un postgrado en Nueva York, ha transformado la creación de contenido audiovisual, al lograr incluir tecnología de punta - como machine learning (aprendizaje automático)- a los procesos de edición y post producción de videos e imágenes. De hecho, sus fundadores han declarado que quieren competir con la gigante de esta industria, Adobe.

Con esta última ronda de inversión, la startup alcanzó una financiación total de US$10,5 millones; nuevo capital que le permitirá a la empresa, con oficinas en Brooklyn, el inicio de su siguiente fase de crecimiento, profundizando en sus equipos de investigación e ingeniería

“Avances e investigaciones recientes en inteligencia artificial están catalizando un nuevo paradigma de creación, donde la capacidad de generar contenido sintético y de automatizar los procesos de edición van a cambiar radicalmente cómo creamos y distribuimos videos, imágenes, audios, etc.”, explicó el fundador de Runway, Cristóbal Valenzuela. Además agregó: “Con Runway, estamos construyendo la columna vertebral para una nueva revolución creativa, permitiendo a artistas hacer cosas que eran imposibles hasta hace muy poco”.

En la actualidad, la comunidad de usuarios de Runway incluye diseñadores, cineastas y otros profesionales creativos dentro de empresas como R/GA, New Balance, Google e IBM; junto con haber sido adoptado por varias universidades internacionales para el desarrollo de sus enseñanzas, dentro de las cuales se encuentran Harvard, NYU, RISD y el MIT. En tanto en Chile, la Pontificia Universidad Católica (PUC,) Universidad Adolfo Ibáñez (UAI), y la Universidad de Las Américas (UDLA) han incorporado la plataforma en sus escuelas de diseño, animación y arquitectura.

Los usuarios de la comunidad de Runway ya han entrenado más de 50 mil modelos de Inteligencia Artificial en la plataforma, y han subido más sobre 24 millones de archivos a la plataforma.

Hace solo unas semanas, Runway lanzó un nuevo producto, llamado “Green Screen”, herramienta que utiliza la tecnología de machine learning para automatizar el proceso de rotoscopía en videos y que permite transformar cualquier video en una pantalla verde con lo que los usuarios, profesionales o aficionados, pueden acceder a un significativo ahorro de tiempo y de recursos al momento de eliminar objetos del fondo de una composición ya sea en imagen o video.

--